Titāna sakausējuma PVD pārklājumi ir plānas plēves, kas veidojas uz titāna sakausējuma virsmām, izmantojot fizisko tvaiku nogulsnēšanos (PVD). Šis paņēmiens fiziski iztvaicē avota materiāla (cieta vai šķidruma) virsmu gāzveida atomos, molekulās vai daļēji jonizē tos jonos vakuuma apstākļos. Pēc tam zema spiediena gāzi (vai plazmu) izmanto, lai novietotu plēvi ar īpašām funkcionālām īpašībām uz pamatnes virsmas.
Titāna sakausējumus plaši izmanto to zemā blīvuma, augstās specifiskās stiprības, korozijas izturības un metināmības dēļ. Tomēr to sliktā nodiluma izturība, jutība pret oksidatīvo koroziju un zema virsmas cietība ierobežo to pielietojumu. PVD tehnoloģija var ievērojami uzlabot šīs īpašības, veidojot pārklājumus ar lielu cietību, izturību pret augstu nodilumu un krāsainām dekoratīvām īpašībām uz titāna sakausējuma virsmām.
PVD pārklājuma procesos ietilpst vakuuma iztvaikošana, izšļakstīšana un jonu pārklājums, visizplatītākais ir vakuuma loka jonu pārklājums un izsmidzināšana. Piemēram, TC11 titāna sakausējuma TC11 titāna sakausējuma PVD vakuuma loka jonu pārklājums efektīvi uzlabo tā aizsardzības īpašības.
Tomēr PVD pārklājumi uz titāna sakausējumiem saskaras arī ar dažiem izaicinājumiem. Pirmkārt, titāna sakausējumi ir ārkārtīgi jutīgi pret nogurumu, un tai jāpievērš īpaša uzmanība procesa projektēšanai un kontrolei PVD pārklājuma laikā. Otrkārt, salīdzinot ar nerūsējošo tēraudu, PVD pārklājuma izaicinājums uz titāna sakausējumiem galvenokārt ir gan noņemšanas, gan remonta visaptverošais novērtējums. Turklāt, lai nodrošinātu pārklājuma kvalitāti un saķeri, ir ļoti svarīgi veikt pirmsapstrādes tīrīšanu.
Titāna sakausējumu PVD pārklājumiem ir plašs pielietošanas potenciāls, ne tikai uzlabojot titāna sakausējumu mehāniskās īpašības un bioloģisko savietojamību, bet arī uzlabojot produktu estētiku un ilgmūžību.
Jauni titāna sakausējuma PVD pārklājuma materiāli
Daudzslāņu (CR/CRN) X 8 pārklājums: Šis pārklājums ir novietots uz Ti-6Al-4V sakausējuma virsmas, izmantojot PVD vakuuma loka metodi. Tam ir tāds pats kopējais biezums un slāņu skaits, bet tas atšķiras pēc CR un CRN slāņu biezuma attiecības.
Cieta plāna plēves materiāls CRN: Šis materiāls tiek izmantots Ceratizit CTC5240 ieliktņos un parāda izcilu nodiluma izturību un kalpošanas laiku.
Nodiluma izturība: PVD pārklājumi labāk sasaista sagataves virsmas, kā rezultātā rodas lielāka cietība un lieliska nodiluma un korozijas izturība. Jo īpaši CRN pārklājumiem ir lieliska nodiluma izturība efektīvas titāna sakausējumu apstrādes laikā.
Adhēzija: PVD pārklājumiem ir lieliska saķere un tie var būt saliekti pēc 90 grādiem bez plaisāšanas un plaisāšanas.
Korozijas izturība: PVD pārklājumi ne tikai uzlabo titāna sakausējumu nodiluma izturību, bet arī uzlabo to izturību pret koroziju.
Noguruma veiktspēja: PVD pārklājumi būtiski ietekmē titāna sakausējuma substrāta noguruma īpašības, uzlabojot tā veiktspēju noguruma lūzuma laikā. Vides draudzīgums: PVD procesam nav nelabvēlīgas ietekmes uz vidi un pielāgojas modernās zaļās ražošanas attīstībai.
Titāna sakausējumu PVD pārklājumu priekšrocības un trūkumi
Nodiluma izturība un cietība: PVD pārklājumi ievērojami uzlabo virsmu cietību un izturību pret nodilumu, padarot tos izturīgākus pret skrāpējumiem un nobrāzumiem. Turklāt PVD pārklājumi labāk saglabā savu krāsu ilgtermiņa lietošanai un ir izturīgāki pret nodilumiem nekā anodētie pārklājumi.
Korozijas izturība: PVD pārklājumi piedāvā augstu izturību pret koroziju un ir piemēroti lietošanai daudzos dekoratīvos pielietojumos.
Nav mizošanas: Atšķirībā no tradicionālās galvanizācijas, PVD pārklājumi nemizo.
Uzņēmums lepojas ar vadošajām vietējām titāna apstrādes ražošanas līnijām, tostarp:
Vācu importētā precizitātes titāna cauruļu ražošanas līnija (gada ražošanas jauda: 30 000 tonnu);
Japāņu tehnoloģijas titāna folijas ritošā līnija (plānākā līdz 6μm);
Pilnībā automatizēta titāna stieņa nepārtraukta ekstrūzijas līnija;
Inteliģenta titāna plāksne un sloksnes apdares dzirnavas;
Mes sistēma ļauj digitāli kontrolēt un pārvaldīt visu ražošanas procesu, sasniedzot produkta izmēru precizitāti ± 0,01 μm.
E-pasts
